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            • RIE反應離子刻蝕

              RIE反應離子刻蝕采用模塊化設計,可滿足III/V半導體和Si加工工藝領域的的靈活應用。 SENTECH SI 591可應用于各種領域的蝕刻工藝中,能夠完成多種...

              型號: SI 591 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 12:22:12 對比
              感應耦合等離子刻蝕等離子刻蝕RIE

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